光刻机|美媒：ASML多个举动暗示今明两年将向中芯出货EUV光刻机极紫外光刻|asml

文章图片

文章图片

文章图片

【光刻机|美媒：ASML多个举动暗示今明两年将向中芯出货EUV光刻机】就目前而言， EUV光刻机是最先进的芯片生产设备，没有EUV光刻机，暂时是无法高效、低成本生产制造7nm以下制程的芯片。
另外， EUV光刻机出现后，即便是技术先进的台积电，也开始用EUV光刻机生产制造7nm及以下制程的芯片。
据悉， EUV光刻机目前仅有ASML能够研发制造，该光刻机被研发制造出来后，就供不应求，三星想要更多EUV光刻机， ASML无奈只能让其使用翻新的设备。

最主要的是， ASML的EUV光刻机不能自由出货，从2019年开始，国内厂商就全款订购了一台，至今都没有发货。
在过去的2年多时间里， ASML一直都在想办法让EUV光刻机自由出货，其不仅加大在中国市场的布局，还明确向中国市场出货更多DUV光刻机。
甚至ASML都学习高通的做法，向美发出了警告，目的就是实现EUV光刻机自由出货。但近日，有美媒表示， ASML多个举动暗示今明两年将向中芯出货EUV光刻机。

首先， ASML正在加速EUV光刻机普及。
数据显示， ASML的EUV光刻机出货和DUV光刻机基本实现了对等，而ASML也明确表示，其将会加速EUV光刻机的普及。
根据ASML发布的数据可知，其计划在2025年将EUV光刻机在全球使用率提升到60%以上，相当于每10台光刻机设备中，就有6台是EUV光刻机。
要知道，目前EUV光刻机的总出货量在130台左右，而ASML却在2025年实现60%的普及率，这意味着这几年其要大量出货EUV光刻机。

中国市场又是全球最大的潜力市场，中芯国际对EUV光刻机需求也很大，所以在未来几年内其必然会实现EUV光刻机自由出货。
其次， A正在大力提升产能，并加速技术升级。
ASML要想实现EUV光刻机自由出货，必须要有更多的EUV光刻机产能，同时，还要满足有更先进的光刻机出现。
据悉， ASML已经明确表示，其正在提升EUV光刻机的产能，预计在今明两年生产制造115台EUV光刻机，后续产能将会更高。

另外， ASML也已经正式传出消息，其将会在今年晚些时候将全新一代NA EUV光刻机交给台积电、三星等厂商测试，可能会在2023年或者2024年大量交付。
这就意味在今明两年内， ASML将会满足EUV光刻机大量供货和新一代NA EUV光刻机上市这两个条件，届时， EUV光刻机自由出货就不是什么问题。
毕竟， EUV光刻机出现后， DUV光刻机就实现了自由出货，而NA EUV光刻机出现后， EUV光刻机出货自然也是没问题的。

最后， A要实现超300亿欧元的营收。
ASML也已经明确表示，其要在2025年实现超300亿欧元的营收，如此高的营收目标，必然要借助EUV光刻机。
原因是， DUV光刻机的售价仅在4000万美元左右，而EUV光刻机的售价在1亿美元以上，但两者每年的出货量基本实现了对等。
也就是说， ASML要想获得更多的营收，就需要出货更多的EUV光刻机，否则是无法实现超300亿欧元的营收。
要想通过EUV光刻机获得大量的营收， ASML就必须要实现EUV光刻机自由出货，否则其是无法完成。