显卡|中国芯片卡脖子问题被日本解决,荷兰ASML即将失去中国市场

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在芯片领域 , 有这么一个老生常谈的话题 , 那就是中国无法生产高端芯片 , 特别是美国加大芯片制裁范围以后 , 很多美企都无法出售顶级芯片给中国 , 也就是说中国现在不仅是没有荷兰的EUV光刻机 , 更是无法从相关美企手里到高端芯片 , 无论是芯片设备或是芯片产品 , 中国都存在被卡脖子的情况 , 所以不少国人都对此表示非常担忧 , 那就是如果我们不能解决这个问题 , 那么我们在芯片领域就会一直受制于人 , 我们在各行各业的发展都会变得非常缓慢 , 就是这么一个老生常谈的话题 , 如今终于迎来了天大的好消息 , 而且更加让人意外不到的是 , 中国芯片卡脖子问题竟然被日本给解决了 。

目前国内只能自主生产90nm制程的光刻机 , 不要说荷兰ASML不出售EUV光刻机给我们 , 就连DUV光刻机我国对此也是非常依赖 , 也正是因为过于依赖 , 所以我们在芯片产业才会受制于人 , 老美从中横加阻拦 , 导致我们无法到全球最顶级的EUV光刻机 , 这也让国内芯片厂商无法生产高端芯片 , 比如华为麒麟5G芯片无法量产 , 也是因为我们缺少对应的光刻机设备 , 虽说我国芯片设计已经突破5nm水准 , 但是我们在芯片制程上却仅仅只有14nm国产生产线 , 也就是说14nm以下制程的芯片 , 我们都不能依靠纯国产化进行自主研发 , 这就是我国芯片被卡脖子的尴尬现状 , 然而让人万万没有想到的是 , 这种尴尬的现状竟然被日本给解决了 。

据可靠消息透露 , 日本多家半导体公司 , 正式宣布突破了5nm芯片的制造技术 , 看来日本半导体并没有开玩笑 , 早前日本东芝就曾表示 , 不仅要打造一条去美化的芯片生产线 , 更是要在芯片制造领域取得重大突破 , 只有这样才能提升日本半导体的核心竞争力 , 然而让人万万没有想到的是 , 佳能与铠侠都纷纷宣布在5nm芯片上取得重大进展 , 根据国外媒体传过来的消息显示 , 日本佳能正在扩充建厂 , 建厂的目的就是为了增大光刻机产能 , 而这种光刻机很有可能就是2021年的纳米压印光刻机的升级版 , 日本佳能更是公开表示 , 已经成功实现5nm芯片的制造技术 。

除此之外 , 日本媒体也宣称铠侠联合多个合作伙伴开发出了一种新的工艺 , 而这种新工艺是不需要荷兰的EUV光刻机 , 就能生产出5nm制程工艺的芯片 , 确实如此 , 根据DNP的说法 , 铠侠所拥有的纳米压印微影技术 , 其电路精细程度可以达到5nm , 哪怕是不使用荷兰的EUV光刻机 , 也能做到实现5nm芯片的量产 , 只不过目前还处于完善阶段 , 虽然技术问题都已解决 , 但是还有一些细节需要处理 , 比如细微的尘埃以及绝对无尘的生产环境 , 都会影响到该技术生产芯片的良品率问题 , 也就是说现在只剩最后一步 , 日本的这项技术就能彻底淘汰EUV光刻机 , 成为全球半导体厂商梦寐以求的技术 。

我们都知道 , 日本可以说是唯一曾经打败过美国半导体的存在 , 早前在半导体行业美企与日企之间的发展已经不在同一层次 , 然而不愿看到日本半导体高速发展的美国 , 却对此横加阻拦 , 说什么也不能让日本半导体超越美国 , 结果好景不长 , 好不容易领先的日本半导体就这么彻底没落 , 甚至是时至今日也只能维持在30nm左右的技术 , 可是经过半导体发展黄金年代的日本 , 却依然保存着实力 , 不仅是拥有良好的技术底蕴 , 如今更是在半导体领域有了全新突破 , 佳能、尼康都是在光刻机领域的先行者 , 可以说他们就是光刻机的鼻祖 , 如今鼻祖放出最新消息 , 称已经突破5nm芯片技术 , 可以说这对全世界来说都是一个巨大的惊喜 。