半导体集成电路术语科普

半导体实验室赵工半导体工程师2022-01-2008:06
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基础术语
通用术语
微电子学 , Microelectronics , 高度小型化电子线路的构成和应用的学科 。
集成电路 , IntergrateCircuit , 将若干电路元件不可分割地联在一起 , 并且在电气上互连 , 以致就规范、试验、贸易和维修而言 , 被视为不可分割的一种电路;(注:本定义的电路元件没有包封或外部连接 , 并且不能作为独立产品规定或销售 。 可以分为半导体单片集成电路、半导体多片集成电路、薄膜集成电路、厚膜集成电路、混合集成电路 。
半导体器件 , semiconductordevice , 基本特性是由于载流子在半导体内流动的器件 。
电路元件 , circuitelement , 在集成电路中完成某种电学功能的无源或有源元件 。
有源元件 , activeelement , 一种主要对电路提供整流、开关和放大功能的(电路)元件 。
无源元件 , passiveelement , 对电路功能起电阻、电容或电感 , 或是它们组合作用的元件 。
电极 , electrode , 半导体器件的规定区域与边引出端的内引线之间的提供电学联接的部分;
封装外形图 , packageoutlinedrawing , 规定尺寸特征和机械互换性要求等有关特征的封装图形 。
b.器件类型
单片集成电路 , monolithicIntergratedcircuit,全部元件制作在一块半导体芯片上的集成电路
多片集成电路 , Multichipintegratedcircuit , 一个封装体内仅装有两个或多个半导体芯片的集成电路
膜集成电路 , filmintegratedcircuit , 元件和互连均以膜形式在绝缘基片表面上形成的集成电路 。
混合集成电路 , Hybridintegratedcircuit , 由半导体集成电路与膜集成电路的任意组合 , 或由任何这些电路同分立元件的任意组合形成的集成电路 。
双极型集成电路 , bipolarintegratedcircuit , 以双极型晶体管为基本有源元件构成的集成电路 。
材料及工艺
晶片(圆片) , wafer , 一种半导体材料或将这种半导体材料沉积到衬底上面形成的薄片或扁平圆片 , 在它上面可同时制作出一个或若干个器件 , 然后将它分割成芯片;
芯片 , chip(die) , 从含有器件或电路阵列的晶片上分割的至少包含有一个电路的部分
衬底 , substrate , 在其表面和内部制造器件或电路元件的材料
基片 , substrate , 对膜电路元器件和(或)外贴元器件形成支撑基体的片状材料
膜 , film , 用任何淀积工艺在固体基片上形成的固体层
平面工艺 , planartechnique , 采用掩膜扩散、金属化、光刻等技术 , 在衬底上制造元器件和电路的过程 。
外延工艺 , epitaxytechnique , 在衬底上生长一层与衬底有相同或相近晶相的半导体材料的过程
光刻工艺 , photolithographytechnique , 利用曝光、显影、刻蚀等技术 , 在表面涂覆有光致抗蚀剂膜的晶片上 , 制作出所需图形的过程
真空蒸发 , vacuumevaporation , 在真空中将材料加热 , 并使其蒸发淀积在其他材料表面上形成膜的过程
扩散工艺 , diffusiontechnique , 将杂质原子扩散到半导体晶体中 , 在该晶体中形成P型或N型电导率区域的过程 。
离子注入 , ionimplantation , 将被加速的离子注入到半导体晶体中 , 在该晶体中形成P型、N型或本征导电区
溅射 , sputtering , 利用辉光放电中气体离子的轰击使电极材料释出 , 并淀积在其他材料表面上形成膜的过程
金属化 , metallization , 淀积一层金属膜 , 并制作布线图形 , 从而形成所需内连线等的过程