华为正式联手中科院,研制光刻机需要几年?ASML给出标准答案

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近日 , 据媒体报道 , 华为旗下哈勃投资有限公司正式入股光刻机企业北京科益虹源光电技术公司 , 股份占比高达4.76% , 成为其第七大股东 。
值得一提的是 , 北京科益虹源光电的第一大股东就是中科院 。 也就是说 , 华为要与中科院联手研制国产光刻机 , 彻底解决卡脖子问题 。
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据公开资料显示 , 科益虹源光电主营业务是集成电路光刻光源制造及服务 , 并早在2018年自主研发设计我国首台高能准分子激光器 , 成功打破海外在该领域长期的技术垄断 。 并在2020年4月投资5亿元建设了一座1.2万平方米 , 年产RS222型光刻准分子激光器、光刻用准分子激光器、405光纤耦合头等各类设备30台的加工厂 。
由于美国的制裁 , 高端光刻机又被卡了脖子 , 致使华为高端芯片的生产受到了很大的限制 , 我们迫切需要突破高端光刻机技术 , 实现国产高端芯片的自主生产 , 于是 , 华为联手中科院 , 研制国产高端光刻机引起了网友们的强烈关注 。
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光刻机作为芯片制造最核心的设备之一 , 其制造技术非常的高尖端 , 技术难度高达SSS级 。 美国一科学家曾表示 , 即便是中国得到了EUV光刻机的图纸 , 也造不出来EUV光刻机 , 可见EUV的研制是多么的艰难 。
我国院士吴汉明曾表示 , EUV光刻机所需的零部件高达10万件 , 仅凭一国之力很难制造出EUV光刻机 。
那么 , EUV光刻机既然这么难造 , 华为和中科院的强强联手 , 能否突破技术壁垒 , 成功研制出EUV光刻机呢?
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光刻机并不是一项抽象的单一技术 , 而是一个高端技术的集合体 , 需要整个世界半导体产业链的支持 , 如ASML公司制造的EUV光刻机 , 光源来自美国 , 材料来自日本 , 光源系统来自德国等 , 如果任何一国对关键技术进行卡脖子 , ASML公司都无法制造出EUV光刻机 , 可以预见 , 我国制造EUV光刻机的难度有多大 。
我国进入现代工业的时间较晚 , 技术积累薄弱 , 基础工业的整体水平与西方发达国家存在着一定的差距 , 如今老美又对我们进行技术封锁 , 我们真的就无法制造出EUV光刻机吗?答案是肯定的 , 我国一定能独自制造出EUV光刻机 。
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自从2020年5月美国对华为实施“芯片禁令”后 , ASML公司先后四次示好我国市场 , 明确表示将加速在我国市场的布局 , 加强与我国芯片制造企业的合作 , 推动我国半导体产业链的发展 。
除此之外 , ASML公司总裁彼得.温尼克发出警告:如果不将光刻机卖给中国 , 三年之后 , 中国将会掌握这种技术 , 且中国的制造成本极具优势 , ASML公司或将退出光刻机市场 。
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作为光刻机制造领域的龙头 , ASML公司的反应告诉了我们一个答案:中国将会在三年之后彻底掌握EUV光刻机技术 , 且清华大学发现了可用于EUV光刻机的新光源 , 华为与中科院的强强联手 , 将会缩短这个时间 。
华为正式联手中科院,研制光刻机需要几年?ASML给出标准答案】当然了 , 即便是我们掌握着EUV光刻机的技术 , 我们依然有很长一段的路要走 , 必须寻找到可以替代被“卡脖子”的核心零部件 , 只有这样 , “中国芯”在今后的发展才能彻底摆脱制约 。 对此 , 你有什么看法呢?