拜登傻眼了！国产新型光刻机已正式投入使用，外媒：中国太可怕近日

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近日，美日荷结成三国芯片联盟，再次加码升级对我国进口光刻设备的限制，给我国芯片产业的发展再添了一堵墙。可能很多人都认为这是一个坏消息，都在痛骂老美。
然而，如果我们换个角度来看这件事，这又何尝不是给国产光刻机的研发注入了一支强心剂呢？有时候，后面有只恶狼追着，会让我们跑得更快，不是吗？

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这不，就在近日，国产光刻机又传来了两个振奋人心的好消息。一个是首台国产光刻机正式投入使用。另一个是接近式光刻机正式投入市场，步进式光刻机也已启动用户优化工作。
而美国总统老拜得知此消息后，也傻了眼，没想到中国光刻机这么快就造出来了！外媒禁不住感叹：中国太可怕了！

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1、首台国产光刻机正式投入使用
说到光刻机，通过这段时间的了解，想必大家都已经不陌生了。它是制造芯片的核心关键设备，目前全球范围内能排得上号的只有荷兰ASML、日本尼康和佳能，还有我国的上海微电子四家。
其中， ASML自然是老大，占据市场份额最大，总体占到了60%以上的份额，而且在高端EUV光刻机领域几乎占到100%的份额，处于垄断地位。

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尼康和佳能主要生产的是中低端光刻机，所占的市场份额，按2021年的数据来看，尼康占了6% ，佳能占了29% 。实际上，尼康和佳能都是光刻机界的老大哥了，当年他们兴盛的时候， ASML还不知道在哪儿“玩粑粑”呢！只是后来，日本的泡沫危机导致国力衰退，再加上日本人骨子里那种一条道走到黑的精神，后来玩砸了，就被ASML给逆袭了！

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不过，现在的尼康还是很厉害的，已经可以量产7nm以下工艺的DUV浸润式光刻机。（注意：此次三国芯片联盟限制向我国进口的光刻机里就有它，足见性能非常了得！）

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而佳能呢，因为实在干不过ASML ，后来就开窍了，不正面硬刚了，转去研究“纳米压印光刻”（NIL）“技术去了，看来它也想来个弯道超车！还别说，果然有突破。在NIL专利上，佳能已经做到了一支独秀。目前正在加紧研发新一代NIL光刻机技术，要实现5nm精度的目标呢，真是志向远大，不得不佩服。

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说完了国外的光刻机，接下来该说咱们中国的国产光刻机了，首屈一指的当然是上海微电子了。目前上海微电子已经量产的是90nm光刻机，不过据说28nm的光刻机已经到了最后的攻坚阶段，估计不久也将问世。

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此次投入使用的正是上海微电子的国产光刻机，落户的企业是昆山同兴达。该企业主营的方向是半导体芯片的封测领域，所以这次引进的是封测光刻机，而且一口气买了2台，每台售价1800万元。主要用于金凸块的封测，预计今年5月开始量产。

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