PVD真空镀膜原理是什么,cvd镀钛原理？

目前常用的PVD有三种：真空蒸镀、溅射镀膜、和离子镀。它们的工作原理如下：
1.真镀空膜是在1.33x10^-3至1.33x10^-4Pa的压力下，用电子束等热源加热材料使之蒸发，蒸发的原子或分子直接在工件表面形成沉积层。
2.溅射镀膜：是不采用蒸发技术的物理气相沉积方法。施镀时，将工作室抽成真空，冲入氩气做为工作气体，并保持其压力为0.13至1.33Pa 。
3.离子镀：是在真空条件下，利用气体放电使气体或蒸发物质离子化，在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下，吧蒸发物质或其他反应物蒸镀在工件上。

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【PVD真空镀膜原理是什么,cvd镀钛原理？】cvd镀钛原理？
原理:镀钛是在高温，真空钛金炉内，钛、锆金属。借用惰性气体的辉光放电使金属或合金蒸气离子化，离子经电场加速而沉积带负电荷的不锈钢板上，从而形成色泽丰富艳丽的金属膜。这也叫PVD镀膜，是物理蒸汽沉积。不锈钢镀膜，也叫不锈钢钛/锆镀膜，就是在一个真空容器内，在不锈钢表面形成钛/锆化合物的离子膜层，膜层能在室外环境下长年不褪色。