光刻机第一股？华卓精科顺利过会背后：消失的“光刻机双工件台” 摘要：9月17日

摘要：9月17日，上海证券交易所披露信息称，上海证券交易所科创板上市委员会2021年第69次审议会议于2021年9月17日上午召开，审议通过了北京华卓精科科技股份有限公司（以下简称“华卓精科”）科创板IPO上市的申请。
9月17日，上海证券交易所披露信息称，上海证券交易所科创板上市委员会2021年第69次审议会议于2021年9月17日上午召开，审议通过了北京华卓精科科技股份有限公司（以下简称“华卓精科”）科创板IPO上市的申请。
华卓精科此次申请科创板IPO ，计划募资7.35亿元，将用于半导体装备关键零部件研发制造、超精密测控产品长三角创新与研发中心、集成电路装备与零部件产品创新项目、光刻机超精密位移测量及平面光栅测量技术研发4个项目。
作为号称打破国外垄断的国产光刻机双工件台企业，在华卓精科科创板IPO申请获得批准前后，不少媒体都有对华卓精科进行过报道，并称华卓精科将成为“光刻机第一股” 。然而讽刺的是，一个多月前，华卓精科就曾上会，但似乎正因为将尚未实现产业化的“光刻机双工件台”业务作为主营业务而被“暂缓审议” 。
此次华卓精科能够成功过会，似乎正是因为重新更新了招股书，并将“光刻机双工件台”从招股书当中删除了。
一、打破国外垄断，世界上第二家掌握双工件台核心技术的公司？
众所周知，光刻机是制造大规模集成电路的核心装备。为将芯片设计图形制作到硅片上，并在一颗芯片上集成数十亿、甚至上百亿颗的晶体管，必须要用到光刻机来进行曝光。
而对于光刻机的性能来说，曝光系统是最为核心的部件。此外工件台也是一个关键部件，在高速运动下需达到2nm（相当于头发丝直径的三万分之一）的运动精度，它的定位精度直接影响了光刻出来的硅片的质量。这也奠定了光刻机超精密工件台技术在超精密机械制造与控制领域的尖端地位，被称为超精密技术皇冠上的明珠。
在2000年前，光刻设备只有一个工件台，晶圆片的对准与曝光流程都在上面完成。直到2001年， ASML推出了Twinscan双工件台系统，使得光刻机能在一个工件台进行曝光晶圆片，同时在另外一个工作台进行预对准工作，并在第一时间得到结果反馈，生产效率提高大约35% ，精度提高10%以上。而随近年来技术的持续改进，双工件台的效率得到了持续的提升。
有资料显示，单工件台的光刻机的生产速度只有每小时80片，而双工件台，它的生产速度则可以高达每小时270片~300片。
虽然，相比单工件台系统来说，双工件台系统虽然仅是加一个工件台，但技术难度却不容小觑，对工件台转移速度和精度有非常高的要求。
自2013年以来，华卓精科就承担了“IC装备高端零部件集成制造工艺研究与生产制造”项目、“浸没式光刻机双工件台产品研制与能力建设”项目和“浸没式光刻机双工件台平面光栅位置测量系统研发”项目等3项“02专项”重大科研项目。并在随后几年，实现了超精密机电系统设计技术、超精密位移测量技术、超精密控制技术等核心技术的突破，奠定了公司光刻机双工件台的研发基础。
2016年4月28日，在公司创始人兼董事长——清华大学机械系机电所所长朱煜教授的带领下，华卓精科研发团队历经5年时间研发的光刻机双工件台系统样机成功通过了国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”（简称02专项）实施管理办公室的项目验收。