极紫外光刻|外媒:EUV光刻机事件再现了!

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老美对于中国市场引进EUV光刻机的态度一直都很明确 , 那就是ASML无法自由出货 。 本来以为这是在单纯的限制中企 , 但是在SK海力士宣布要在国内无锡扩建工厂 , 要引进EUV光刻机的时候却被老美进行了阻止 , 声称需要获得老美的许可 。 从那个时候我们就明白 , 老美并不是不让ASML和中企进行EUV光刻机订单的合作 , 而是先进的芯片制造设备不能进入到中国市场 。

【极紫外光刻|外媒:EUV光刻机事件再现了!】值得注意的是 , 就在近日 , 外媒表示当初EUV光刻机的事件再现了!
众所周知 , 这段时间漂亮国一直在打算收紧对中国大陆半导体设备的限制 , 其中对荷兰以及ASML光刻机巨头要求禁止出手成熟制程的DUV光刻机设备就是典型的例子 。 而除了这一点之外 , 目前他们也在考虑是否要将之前限制的10nm的工艺制程提升到14nm工艺的制程设备 。 对于这一点 , 虽说没有正式的披露 , 但是已经有美企表示他们接到了通知 , 要求取消对中企14nm以下的芯片制造设备的供应 。

我们可以这么认为 , 这个事情基本上已经是定局了 。 而外媒之所以说这算是EUV光刻机的事件再现 , 是因为美企在透露的时候 , 也透露了一个很关键的东西 。 那就是在我们市场上进行扩产的企业也会受到该禁令的限制 。 很显然 , 如果一旦如此 , 那么这就和当初的EUV光刻机被限一样的局面 , 不管是SK海力士 , 还是三星以及其他的企业在我们国内扩产 , 要是涉及到了老美所认为的先进工艺制程 , 也需要在获得芯片制造设备上通过老美的许可 。

就个人觉得 , 很大可能会出现这样的局面 。 要知道在老美才通过不久的2800亿美元的芯片法案中就被透露了一个规定 , 要是他们要想获得补贴 , 那么就要取消未来十年内在中国市场上扩产先进工艺制程的计划 。 至于这个先进工艺制程到底什么范围被判定为先进并不重要 , 重要的是老美要收紧限制的态度非常的明确 。 由此我们可以推断未来受这个芯片法案以及限制的巨头们可能还不少 。

只是就个人觉得老美的这个算盘可能不会太顺利 。 首先 , 他们需要考虑到限制的同时是不是会影响到他们自身所需要的芯片产能 , 毕竟这牵一发就得动全身 。 其次 , 有消息透露不少的美企 , 如英伟达等也就此事在进一步的进行沟通 , 希望可以最大限度地规避限制 。 这也就意味着美企对于这样的计划并不太赞成 , 那么如果他们联手的话 , 或许老美这一方面需要承担一定的压力 。 至少 , 最好的局面就是会延后限制时间 , 亦或者是一定程度上的降低限制范围 。

但有一说一 , 老美如今的态度之下 , 对于美半导体的发展来说并不不是一个利于他们的局面 。 就目前的情形来看 , 中国半导体市场是全球半导体市场上重要的参与者 , 他们如此做法很大可能在最后是损失到不少美企的利益 。 所以 , 就个人觉得此事还存在一定转机 。

对此 , 你们是怎么看待这件事情的呢?欢迎留言评论、点赞和分享!